1.表面基团
相邻羟基(在相邻的硅原子上)，它对极性物质的吸附作用十分重要;隔离羟基，主要存在于脱 除水分的白炭黑表面上。这种羟基的含量，气相法白炭黑比沉淀法的要多，在升高温度时不易脱除;双羟基，在一个硅原子上连有两个羟基。
白炭黑表面的基团具有一定的反应性，表面的反应包括：失水及水解反应、与酰氯反应、与活 泼氢反应、形成氢键等。
2.白炭黑表面的吸附作用
白炭黑表面有很强的化学吸附活性，这与表面羟基有关。它可以和水以氢键形式结合，形成多 分子吸附层。除此之外，它还可与许多有机小分子物质发生吸附作用。
·多官能团的胺类或醇类的吸附性高于单官能团的，所以 SiO2胶料中常用乙醇胺、乙二醇、三乙 醇胺等多官能团化合物做活性剂。
3.热行为
将白炭黑加热就会放出水分，随温度升高，放出水分量增加。在150~200℃之前，放出水最多， 200℃以后趋向平缓，有明显的转折点。折点以前主要是吸附水脱附，折点后是表面羟基 缩水反应。
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